DyScO3 szubsztrát
Leírás
A diszprózium szkandiumsav egykristályának jól illeszkedő rácsja van a perovskit szupravezetőjéhez (szerkezet).
Tulajdonságok
| Növekedési módszer: | Czochralski |
| Kristályos szerkezet: | Ortorombikus, perovszkit |
| Sűrűség (25°C): | 6,9 g/cm³ |
| Rácsállandó: | a = 0,544 nm;b = 0,571 nm; c = 0,789 nm |
| Szín: | sárga |
| Olvadáspont: | 2107℃ |
| Hőtágulás: | 8,4 x 10-6 K-1 |
| Dielektromos állandó: | ~21 (1 MHz) |
| Sávköz: | 5,7 eV |
| Irányultság: | <110> |
| Szabványos méret: | 10 x 10 mm², 10 x 5 mm² |
| Szabványos vastagság: | 0,5 mm, 1 mm |
| Felület: | egyik vagy mindkét oldala epipolizált |
DyScO3 szubsztrát meghatározása
A DyScO3 (dysprosium scandate) szubsztrát a vékonyréteg-növekedés és epitaxia területén általánosan használt specifikus szubsztrátumanyagra utal.Ez egy egykristályos szubsztrát, amelynek sajátos kristályszerkezete diszprózium-, szkandium- és oxigénionokból áll.
A DyScO3 szubsztrátok számos kívánatos tulajdonsággal rendelkeznek, amelyek sokféle alkalmazásra alkalmassá teszik őket.Ezek közé tartozik a magas olvadáspont, a jó termikus stabilitás és a rács nem illeszkedik sok oxid anyaggal, ami lehetővé teszi a kiváló minőségű epitaxiális vékony filmek növekedését.
Ezek a szubsztrátumok különösen alkalmasak a kívánt tulajdonságokkal rendelkező összetett oxid vékonyrétegek termesztésére, mint például ferroelektromos, ferromágneses vagy magas hőmérsékletű szupravezető anyagok.A szubsztrát és a film közötti rácsos eltérés a film feszültségét idézi elő, ami szabályoz és javít bizonyos tulajdonságokat.
A DyScO3 szubsztrátokat általában K+F laboratóriumokban és ipari környezetben használják vékony filmek növesztésére olyan technikákkal, mint a pulzáló lézeres leválasztás (PLD) vagy a molekuláris sugár epitaxia (MBE).A kapott filmek tovább feldolgozhatók és számos alkalmazásban felhasználhatók, beleértve az elektronikát, az energiagyűjtést, az érzékelőket és a fotonikus eszközöket.
Összefoglalva, a DyScO3 szubsztrát egy kristály szubsztrát, amely diszprózium-, szkandium- és oxigénionokból áll.Kiváló minőségű, kívánatos tulajdonságokkal rendelkező vékony filmek termesztésére használják őket, és különféle területeken, például elektronikában, energetikában és optikában alkalmazzák őket.
